微弧氧化(Microarc oxidation，MAO)又称微等离子体氧化(Microplasma oxidation,MPO)，通过电解质与相应电参数的结合，依靠弧光放电在铝、镁、钛及其合金表面产生的瞬时高温高压作用，生长出以基质金属氧化物为主的陶瓷膜层。成膜速率根据基质材料、溶液和膜性能要求确定，即微弧氧化工艺。
一般来说，成膜速度不能太快或太慢。如果成膜速度过快，会导致膜层粗糙度大、组织松散、孔隙大、孔隙多，使膜层的耐磨性和耐腐蚀性差；如果过慢，膜层厚度达不到，使膜层硬度和耐磨性达不到理想要求。
因此，膜的厚度受电流密度、电流频率、空比、穿透电压、添加剂等因素的影响。只有控制这些工艺参数，才能制备出合适厚度的膜，以满足性能要求。
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