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高功率脉冲磁控溅射(High-power impulse magnetron sputtering,HiPIMS)..
高能脉冲磁控溅射技术是利用较高的脉冲峰值功率和较低的脉冲占空比来产生高溅射金属离化率的一种磁控溅射技术。力学所引进德..
离子镀膜设备是采用冷阴极自持弧光放电,瞬间使镀膜材料受热蒸发,靶材离子及原子等高速运动到基材表面沉积膜层的镀膜原理,..
12台模块化电源并联输出(12*24KW),以PLC+工控机+自动控制程序进行管理及监控,构成智能微弧氧化电源系统。
8台模块化电源并联输出(8*24KW),以PLC+工控机+自动控制程序进行管理及监控,构成智能微弧氧化电源系统。
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