镁合金微弧氧化技术的工艺流程如下：
化学除油（配合超声波除油效果更好）清洗微弧氧化清洗封闭烘干成品检验。
影响生产工艺条件的因素：
①合金材料和表面状态的影响：微弧氧化技术对镁工件的合金成分要求不高，对工件的表面状态要求不高，一般不需要表面抛光。对于粗糙度高的工件，微弧氧化后表面修复变得更加均匀光滑；对于粗糙度低的工件，微弧氧化后表面粗糙度增加。
②电解质溶液及其成分的影响：微弧氧化电解质是获得合格膜的技术关键。不同的电解质成分和氧化工艺参数，膜的性质也不同。
③氧化电压和电流密度的影响：微弧氧化电压和电流密度的控制对获得合格的膜也至关重要。不同的材料和不同的氧化电解质具有不同的微弧放电击穿电压（击穿电压：工件表面刚刚产生微弧放电的电解电压）。
④温度与搅拌的影响：与传统的阳极氧化不同，微弧氧化电解质的温度允许范围较宽，可达10~60℃在条件下进行。虽然微弧氧化工件表面有大量气体沉淀，对电解质有一定的搅拌作用，但一般需要配备电解质搅拌装置，以保证氧化温度和系统成分的均匀性。
⑤微弧氧化时间的影响：微弧氧化时间一般控制在10~60min。氧化时间越长，膜的致密性越好，但粗糙度也越高。
⑥阴极材料：微弧氧化阴极材料为碳钢、不锈钢或镍。
⑦膜的后续处理：镁基工件可直接使用，无需微弧氧化，也可封闭、油漆、机械抛光，进一步提高膜的装饰性。
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