离子镀膜设备是采用冷阴极自持弧光放电,瞬间使镀膜材料受热蒸发,靶材离子及原子等高速运动到基材表面沉积膜层的镀膜原理,是具有沉积速率快,离化率高等特点的镀膜设备,膜层光亮致密,我公司自主开发全自动控制系统可实现一键化操作;适合高端产品涂层镀膜的稳定连续生产。
一、产品概述
1、功能:适用于各种金属与非金属表面镀制金属膜层(金、银、铜、铝、铬、锆、钛等)、合金膜层(钛铝、镍铬、铬铝等)、化合物膜层(TiN、TiC、TiNC、CrN、TiAlN等)、多层复合膜等。因其无污染,洁净环保,广泛应用于餐具、五金产品、工艺品、卫浴产品、板材、货架等各种装饰、功能涂层等领域。
2、产品特点:离子镀膜设备是采用冷阴极自持弧光放电,瞬间使镀膜材料受热蒸发,靶材离子及原子等高速运动到基材表面沉积膜层的镀膜原理,是具有沉积速率快,离化率高等特点的镀膜设备,膜层光亮致密,我公司自主开发全自动控制系统可实现一键化操作;适合高端产品涂层镀膜的稳定连续生产。
二、技术参数
型号 | LZD1300 |
真空腔室尺寸 | Φ1300×H1200mm |
真空系统 | 国产或进口分子泵/扩散泵+罗茨泵+机械泵高真空系统 |
极限真空 | 优于2.0×10-4Pa |
抽速 | 从大气到3.3×10-3Pa≤30min,升压率关机12小时后真空度≤10Pa |
工件架尺寸 | 12-24工位可选 |
工件烘烤温度 | 室温~200℃,可调可控(PID控温) |
配置 | 弧源(柱弧、圆弧)、离子源、偏压 |
系统 | 全自动控制系统,个性化的Tech-Coating控制菜单,安全保护系统 |
占地面积 | 长×宽:4m×3m |