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微弧氧化技术有哪些特点?_苏州粤辉煌专注微弧氧化设备整体解决方案

微弧氧化技术有哪些特点?

发布时间:2022-12-14阅读量:1313

微弧氧化(Microarc oxidation, MAO)又称等离子体电解氧化氧化(Plasma electrolytic oxidation, PEO)、氧化微等离子体(Microplasma oxidation, MPO)等,是铝、镁、钛等金属及其合金表面通过电解质与相应电参数的结合,依靠弧放电产生的瞬时高温高压作用,以基质金属氧化物为主的陶瓷膜原位生长。微弧氧化技术处理最多的材料是镁、铝、钛及其合金。此外,钽、铌、锆、铍等材料的表面可直接进行微弧氧化,具有广阔的应用前景。

微弧氧化技术的特点:

1. 提高材料表面硬度

微弧氧化膜层是表面多孔(孔径几微米)、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高(维氏硬度可在几百到三千左右) 几微米到几百微米之间,厚度在几微米到几百微米之间。

2. 高耐磨性

用WC做摩擦副,摩擦率4.9*10 -7mm³/Nm,摩擦系数0.48 提高50倍左右。

3. 高耐蚀性

耐中性盐雾腐蚀(国标)≥400h ,可做至≥800h膜层无明显腐蚀。

4. 耐热性高 绝缘性好

根据基材熔点的温度,耐热性高,可承受高温使用 绝缘性能好,绝缘电阻膜阻>100MΩ 绝缘耐压>5000V/秒。

5. 高结合力

陶瓷膜在基体原位生长,膜层与基金属结合力强,陶瓷膜致密均匀,剪切强度330MPa,拉伸强度370MPa。

注:上述试验参数是基于铝合金材料,如笔电上镁合金微弧氧化表面性能稍差。

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