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​HiPIMS电源技术及项目运用_苏州粤辉煌专注微弧氧化生产线整体解决方案

​HiPIMS电源技术及项目运用

发布时间:2021-06-23阅读量:1193

HiPIMS电源技术及项目运用

成效信息:

1. 主要用途:光机电一体化

2. 技术行业:智能制造技术

3. 技术质量指标:能够批量生产

成果简介

1、技术详细介绍及特性

HiPIMS电是利用较高的脉冲最高值输出功率和较低的脉冲pwm占空比来造成高磁控溅射金属材料离化率的一种磁控溅射技术。

力学所引入法国 huttinger 开关电源,与等离子技术吞没离子注入堆积(PIII&D)方式紧密结合,产生一种新奇的破乳全过程与品质管控技术,是可运用于大中型矩形框靶的离化率可控性磁控溅射新技术,弥补了中国在该方位的科学研究空缺。

将高能冲击性磁控溅射与髙压脉冲偏压技术复合型,利用其高离化率和吞没性的特性,根据破乳全过程中出射颗粒动能与遍布的合理操纵,完成高膜基结合性、高质量、高匀称性塑料薄膜的制取。

与此同时融合全新升级的颗粒动能与破乳全过程意见反馈自动控制系统,进行高离化率等离子技术产生、等离子技术的时光演化及荷能颗粒破乳物理学过程管理等层面的科学研究与工程项目运用。其关键技术具备独立专利权,已申请办理有关专利发明二项。

此项技术对完成 PVD 堆积重要发展瓶颈的提升具备积极意义,有利于提高在我国在金属表面处理生产加工行业的竞争力。如在交通出行行业,该技术用以发动机三构件,可减少磨擦 25%,降低耗油量 3%;机械加工制造行业,堆积优秀涂层可使数控刀片使用寿命提升 2~10 倍,生产加工速率提升 30-70%;

总的来说,该武器装备系统软件将在卫星通讯、低温等离子物理学、新型材料等行业具备关键的工业生产运用使用价值。HiPIMS电等离子技术产生与破乳操纵服务平台工作上的高能脉冲磁控溅射靶。

2、主要用途

工模貝高溫镀层:车辆、航天航空、国防等智能制造应用领域;

希土铝耐腐蚀塑料薄膜:NdFeB 磁石领域环境保护镀层运用;

太阳能发电塑料薄膜:太阳能发电及新能源技术行业运用;

生物技术塑料薄膜:微生物医疗行业运用。

PS:假如也有别的想掌握的专利权成效信息,能够在下边给我留言板留言哦!


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